韓国特許庁技術デザイン特別司法警察（技術警察）と大田地方検察庁は26日、半導体ウエハー研磨関連技術を中国に流出させようとした大企業、中堅企業の現職・元社員6人を起訴したと発表した。今回の事件は技術警察が逮捕状を請求し、容疑者を送検した初のケースだ。
特許庁によると、主犯の中堅企業A社社員は役員昇進から脱落後、2019年6月に中国企業と半導体ウエハー研磨剤製造事業で協業を決めた。同社員はA社勤務中にも中国事業を管理しており、20年5月に中国企業の社長級に転職。中堅企業B社、大手企業C社の研究員を引き抜き、中国企業に転職させた。元研究員らはコンピューターと業務用携帯電話で会社の内部ネットワークを接続し、機密資料を閲覧。それを携帯電話で撮影をして流出させた疑いが持たれている。資料は企業秘密であり、国家重要技術も含まれた。A社、B社、C社はいずれも上場企業。
技術警察は昨年3月、国家情報院から情報提供を受けて捜査に着手し、中国企業に転職した元社員が新型コロナウイルス感染症で韓国に一時帰国した際、追跡を行い証拠を確保した。技術警察は3人を逮捕、送検。大田地検は今月、産業技術保護法、不正競争防止法違反などの罪で起訴した。
特許庁は「被害企業で規模が最も小さいB社は技術流出で1000億ウォン（約105億円）以上の経済的被害が発生した。犯行グループが流出させた資料によって、中国で本格的な事業が行われる前の段階で逮捕し、追加的な被害を防止した」と説明した。
ユ・ジハン記者