米制裁下で8ナノ半導体製造設備を開発? 誤報騒動の裏に中国の焦り

2024/10/21 07:00

▲写真=UTOIMAGE

 秋夕(中秋節)の連休に中国が独自技術で回路線幅8ナノメートル級の半導体製造が可能な深紫外線(DUV)露光装備を開発したというニュースが伝わりました。最初に中国のポータルサイトとソーシャルメディアにニュースが掲載され、台湾・香港メディアと一部の韓国メディアも追随して報じました。

 結果として、このニュースはとんでもない誤報でした。中国工業情報省が9月初めにウェブサイトに掲載した2024年版重要技術設..

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