【NEWSIS】今月20日午前、仁川国際空港で中国人実業家の顔にガススプレーを噴射し、9万ドル（約1400万円）を奪って逃走したとして、強盗容疑で30代の中国人A容疑者が逮捕された。仁川空港警察団が29日、発表した。

　仁川空港警察団はまた、中国へ逃亡した30代のB容疑者についても同じ強盗容疑で行方を追っている。

　28日にA容疑者の逮捕前被疑者尋問（令状実質審査）を審理した仁川地裁のソ・ヒギョン部長判事は「証拠隠滅と逃走の恐れがある」として逮捕状を発布した。

　A容疑者らは今月20日午前7時12分ごろ、仁川国際空港第1旅客ターミナルで、中国人実業家C氏（40代）の顔にガススプレーを噴射し、9万ドルの入ったバッグを奪って逃走した疑いが持たれている。

　通報を受けた警察は事件現場付近の監視カメラの映像などを基に、犯行から五日たった25日午後5時50分ごろ、仁川市内の路上でA容疑者を検挙。しかし共犯のB容疑者は事件当日の昼に金浦空港から中国・上海に向けて出国したことが確認された。

　容疑者らは犯行の二日前に韓国に入国し、犯行前日夜に仁川国際空港1階から下見を実施。警察の追跡をかわすために、かつらと逃走時の着替え、1回用交通カードを事前に準備していたことが分かった。

　警察は、中国に向かったB容疑者の逮捕状の発付を受け、インターポール（国際刑事警察機構）を通じて国際手配を行うとともに、押収した4万ドルなどについては捜査手続きに則ってC氏に返還する予定だ。

　警察の関係者は「容疑者らの逃走を手助けした50代の中国人は拘束せずに立件した」「Ａ容疑者らについて、正確な犯行の経緯を調べている」と説明した。

キム・ドンヨン記者